產品
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- E2M系列雙級旋片泵
- nES系列單級旋片泵
- ES系列單級旋片泵
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- EDC系列爪式真空泵
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- STP系列渦輪分子泵
- Stokes滑閥泵
- Stokes 6羅茨泵
- D-LAB系列隔膜真空泵
- nEXPT系列分子泵站
- nEXT系列渦輪分子泵
- EDP系列化工爪式干泵
- CXS系列化工螺桿真空泵
- CDX系列化工螺桿真空泵
- HT系列油蒸汽擴散泵
- iH系列半導體真空干泵
- iXH系列半導體真空泵
- iXL系列半導體真空干泵
- EPX系列半導體真空干泵
- GX系列半導體干式泵
產品詳情
簡單介紹：
iXH 干式工業(yè)級真空泵系統(tǒng)系列干泵產品是 Edwards 的市場 iH 產品的，為嚴苛制程能力 樹立了新標準，它在上的許多 300mm 半導體和平板 工廠內通過提高制程性實現(xiàn)低成本。
iXH 干式工業(yè)級真空泵系統(tǒng)可滿足 FPD、太陽能、 半導體和 LED 制造業(yè)中日益提高的氣體流量要求的 大容量干泵和增壓泵系列。 除了具有高峰值抽取速度外，這些泵還配備多種特性 以在嚴苛制程中具有大性。
詳情介紹：
iXH 干式工業(yè)級真空泵系統(tǒng)
iXH 系列干泵產品是 Edwards 的市場 iH 產品的，為嚴苛制程能力 樹立了新標準，它在上的許多 300mm 半導體和平板 工廠內通過提高制程性實現(xiàn)低成本。
可滿足 FPD、太陽能、 半導體和 LED 制造業(yè)中日益提高的氣體流量要求的 大容量干泵和增壓泵系列。 除了具有高峰值抽取速度外，這些泵還配備多種特性 以在嚴苛制程中具有大性。
iXH 泵采用模塊化設計，符合 當今的制程要求，并且對于前沿工廠中不斷涌現(xiàn)的應用挑戰(zhàn) 有著路線明確的應對計劃。
應用
半導體的目標應用包括：
PECVD
高 K
低 K
SACVD
LPCVD
ALD
EPI
FPD 的目標應用包括：
PECVD
TCO
刻蝕
傳輸腔
主要特性和優(yōu)勢
針對的 EPI 和太陽能制程大幅提高了氫氣抽取速度。
大容量干泵和 增壓泵提供擴展的制程窗口以提高產量。
占地面積更小，高度更低，便于在任何工廠中安裝。
iXH 系列干泵產品是 Edwards 的市場 iH 產品的，為嚴苛制程能力 樹立了新標準，它在上的許多 300mm 半導體和平板 工廠內通過提高制程性實現(xiàn)低成本。
可滿足 FPD、太陽能、 半導體和 LED 制造業(yè)中日益提高的氣體流量要求的 大容量干泵和增壓泵系列。 除了具有高峰值抽取速度外，這些泵還配備多種特性 以在嚴苛制程中具有大性。
iXH 泵采用模塊化設計，符合 當今的制程要求，并且對于前沿工廠中不斷涌現(xiàn)的應用挑戰(zhàn) 有著路線明確的應對計劃。
應用
半導體的目標應用包括：
PECVD
高 K
低 K
SACVD
LPCVD
ALD
EPI
FPD 的目標應用包括：
PECVD
TCO
刻蝕
傳輸腔
主要特性和優(yōu)勢
針對的 EPI 和太陽能制程大幅提高了氫氣抽取速度。
大容量干泵和 增壓泵提供擴展的制程窗口以提高產量。
占地面積更小，高度更低，便于在任何工廠中安裝。
符合主要的標準，包括 UL、CE 和 S2。可以始終如一地使用或省略不用。
